Мантуров: Россия в перспективе может создать литограф на 28 нм и ниже

СИРИУС /Федеральная территория/, 22 сентября. /ТАСС/. Россия в перспективе сможет создавать литографы на 28 нм и ниже, сообщил первый вице-премьер РФ Денис Мантуров на пленарном заседании форума "Микроэлектроника 2025".

"Мы сегодня активно вкладываемся в создание электронного машиностроения. В следующем году у нас будет собственный литограф в кооперации с нашими белорусскими коллегами, литограф на 130 нм. И дальше мы будем поступательно двигаться по совершенствованию этих направлений, доходя до 28 [нм], в перспективе, может быть, даже ниже идти по размеру", - сказал он.

Ранее глава Минпромторга РФ Антон Алиханов заявлял ТАСС, что отечественный литограф, который обеспечит выпуск чипов на 130 нм, будет создан в 2026 году. В перспективе планируется выйти на топологию 90-65 нм.

ТАСС - стратегический информационный партнер форума "Микроэлектроника 2025".